Informace o projektu
Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
(CEPLANT plus)
- Kód projektu
- LO1411
- Období řešení
- 1/2015 - 12/2019
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR
- Národní program udržitelnosti I (LO)
- Fakulta / Pracoviště MU
- Přírodovědecká fakulta
Projekt Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy slouží k podpoře udržitelnosti a dalšímu rozvoji centra CEPLANT vybudovaného v rámci OP VaVpI. Projekt bude zaměřen zejména na základní výzkum, který je nezbytným východiskem pro kvalitní aplikovaný výzkum v oblasti plazmových technologii.
Publikace
Počet publikací: 516
2015
-
Temporal evolution of sputtered species densities in multi-pulse HiPIMS discharge
Rok: 2015, druh: Konferenční abstrakty
-
Time-resolved OES of dielectric barrier discharge
Rok: 2015, druh: Konferenční abstrakty
-
Universal dispersion model for characterization of optical thin films over wide spectral range: Application to hafnia
Applied Optics, rok: 2015, ročník: 54, vydání: 31, DOI
-
Wide spectral range characterization of antireflective coatings and their optimization
Conference on Optical Systems Design - Optical Fabrication, Testing, and Metrology V, rok: 2015
-
Zařízení pro ošetření živočišných vláken, zejména živých lidských vlasů
Rok: 2015
-
Zařízení pro povrchovou plazmovou úpravu materiálu ze skupiny fólie, papír, textilie, netkaná textilie
Rok: 2015